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科目一覧へ戻る/Return to the Course List | 2020/09/23 現在/As of 2020/09/23 |
開講科目名 /Course |
知的財産権法b(18以前)/INTELLECTUAL PROPERTY LAW b |
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開講所属 /Course Offered by |
法学部法律学科/LAW LAW |
ターム?学期 /Term?Semester |
2020年度/2020 Academic Year 秋学期/FALL SEMESTER |
曜限 /Day, Period |
火1/Tue 1 |
開講区分 /semester offered |
秋学期/Fall |
単位数 /Credits |
2.0 |
学年 /Year |
3,4 |
主担当教員 /Main Instructor |
張 睿暎/CHANG Ye Young |
教員名 /Instructor |
教員所属名 /Affiliation |
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張 睿暎/CHANG Ye Young | 法律学科/LAW |
授業の目的?内容 /Course Objectives |
知的財産権法は、産業的な側面の工業所有権法(特許?実用新案?商標?意匠等)と文化的な側面の著作権法に大別することができる。この講義では、登録を受けた一定範囲の技術的思想(発明)を保護する特許法、登録を受けた物品や建築物、一定の画像のデザインを保護する意匠法を学んでいく。また、保護の対象や手法において類似する実用新案法も学ぶ。なお、不正競争防止法および商標法は、前期の「知的財産権法a」で学び、著作権法は、「知的財産権法I(春)、「法律学特講(秋)」でで理解を深めていくこととなる。 教科書と併用して、講義用パワーポイント資料を利用して、内容を検討、理解していく。毎回の講義には、教科書と知的財産権法文集を持参することが望ましい。初回の授業ガイダンス時には講義の詳細な進め方を把握する。 |
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授業の形式?方法と履修上の注意 /Teaching method and Attention the course |
(1)本講義は、2020年10月6日?2021年1月26日の間、毎週火曜日1時限(9:00?10:40)に、Zoomを利用したライブ講義&質疑応答で行われます。お使いのPCやスマホにZoomアプリを予めインストールしてください。教員が招待しますので、Zoomアカウントの登録は不要です。なお、通信量を減らすために、ビデオは出席確認など最小限にとどめ、基本は「講義スライド画面共有+音声」を利用する予定です。 (2)本講義は、教育支援サービス「manaba」を利用して、配布資料およびテスト管理をします。毎回授業時間内で、確認quiz(短答式、所要時間5分?10分ほど)を行い、また授業内時間で中間テスト及び期末テスト(記述式、所要時間1時間ほど)を行います。 |
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事前?事後学修の内容 /Before After Study |
初回ガイダンスで配布した授業計画に沿って、授業で扱う範囲の教科書や補助テキストを予習(2時間)し、授業後は、重要概念や裁判例を復習する自宅学習(2時間)が求められます。 ?講義資料は、「manaba」に講義前日まで配布しますので、教科書とともに予習してください。 ?毎回講義の最後に行う確認quizを復習に活用してください。 ?その他、講義内容に関する質問を受けるチャンネルも多数設けています。詳細は第1回目ガイダンス資料を確認してください。 |
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テキスト1 /Textbooks1 |
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テキスト2 /Textbooks2 |
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テキスト3 /Textbooks3 |
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参考文献等1 /References1 |
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参考文献等2 /References2 |
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参考文献等3 /References3 |
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評価方法 /Evaluation |
出席確認quiz12回分、中間テスト、最終テストを合わせて評価します。 | ||||||||||
関連科目 /Related Subjects |
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備考 /Notes |
詳細な内容は、履修者限定の「manaba」に告知します。第1回目講義(10/6)の前日(10/5)までに必ず「manaba」で配布資料とZoomの講義urlを確認してください。 | ||||||||||
到達目標 /Learning Goal |
特許法、実用新案法に関する条文、重要な裁判例、学説を正確に解釈し、個別の事象について見解を示すことができるようにする。 |
回 /Time |
授業計画(主題の設定) /Class schedule |
授業の内容 /Contents of class |
事前?事後学修の内容 /Before After Study |
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1 | 意匠法1 | 授業のガイダンス、意匠法?特許法?実用新案法の概要とその関係、意匠制度の意義 | |
2 | 意匠法2 | 意匠登録要件①意匠該当性、工業上の利用 可能性、新規性 |
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3 | 意匠法3 | 意匠登録要件②創作非容易性、先願、 不登録事由 |
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4 | 意匠法4 | 登録手続、意匠権の効力、消滅 | |
5 | 特許法1 | 特許制度の意義、特許登録要件①発明該当性 | |
6 | 特許法2 | 特許登録要件②業上の利用可能性、新規性 | |
7 | 特許法3 | 特許登録要件③進歩性、先願、不登録事由 | |
8 | 特許法4 | 登録手続①冒認出願、職務発明 | |
9 | 特許法5 | 登録手続②出願方法、審査の流れ | |
10 | 特許法6 | 登録手続③出願者および第三者の主張 | |
11 | 特許法7 | 消尽、効力の制限 | |
12 | 特許法8 | 特許権侵害、均等論 | |
13 | 特許法9 | 間接侵害、特許権侵害に対する救済、消滅 | |
14 | 総括 | 実用新案法、総括 |